？路阳可没听过，但隐隐感觉到这东西很有可能颠覆光刻机啊，要知道光刻机为什么要叫光刻，光就是基础啊，如果一套设备能制备各种类型的光用于雕刻，那不是要飞？

    根据瑞利判据，要提高光刻机的分辨率，就必须缩短光的波长，dUV使用的就是193纳米的深紫外光，EUV则是13.5纳米，为了获得这个级别的波长，那简直是绞尽科学家们的脑汁。

    ASmL的13.5纳米极紫外光是如何产生呢？

    原理也并不复杂，先用电流给二氧化碳介质通电，让其进入高能态产生红外激光，然后用这个激光来轰击液态锡，让其进入到高能等离子体状态，在等离子体冷却时就会发射出13.5纳米波长的极紫外光，ASmL给这个技术取名叫Lpp-EUV。

    现在实验室用的光源是大连光源结合多家研究室发明的dpp-EUV，原理上是一样的。

    但清大的这个思路，完全又是另一种路线了了，如果这位唐教授的SSmb技术能用于光刻机，那不就是SSmb-EUV了吗？