城半导体深度合作，直接跨级到28纳米dUV光刻机，打破了国外的垄断。

    与华大九合作，完善了EdA软件，越来越多的企业开始使用国产软件设计芯片，晶圆厂不得不配合。

    中芯团队有人起身，瞬间吸引了大部分饶目光，路阳并不看好中芯的消息不知什么时候已才圈内流传。

    “请问路总，外界盛传华芯的光刻机不兼容国外的设计软件，这是否为真？”

    中芯现在的光刻机数量接近30台，大半以上都是来自ASmL的dUV，对于华芯最新研制的28纳米浸没式光刻机性能非常好奇，第一时间便向申城微电子下了订单，但是晶圆厂的整个设计体系都是依托国外那三家EdA巨头。

    一旦无法兼容，成本会大大提升。

    “是的！”

    路阳干脆利落的回答道，没有丝毫犹豫。